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蔼司蒂(上海)投资有限公司

蔼司蒂

感光性干膜"Photec"

激光直描成像用SL系列

感光性干膜Photec激光直描成像用RD系列

SL系列适合UV气体激光、UV固体激光等激光直描成像(直接描绘),是一款具备高感光度・高解析度特性及优秀盖孔性的感光性干膜。

特点

SL1300系列

  • 代表性干膜型号:SL-1329/1338
  • 适用于直接成像355nm波长的曝光系统
  • 高感光特性,可以有效提升生产效率
  • 优良的解析度和密着特性,有助于精细线路的形成
  • 高对比性,曝光与未曝光的干膜颜色对比度明显,有助于提升对品质的检查


SL-1329显影后的干膜侧壁(L/S=50/50um)


SL-1338显影后的干膜侧壁(L/S=50/50um)

SL-1329/SL-1338的一般特性(测试数据的一例)

特性 SL-1329 SL-1338
适用工艺 盖孔/蚀刻 盖孔/蚀刻
感光ST(ST=X/41) 17±3 14±3
曝光能量(mj/cm2) ST=14/41 8 9
ST=17/41 11 12
ST=20/41 15 16
最短显影时间(sec) 21 29
解析度 ST=14/41 25 30
ST=17/41 20 27.5
ST=20/41 25 27.5
密着性 ST=14/41 27.5 32.5
ST=17/41 22.5 27.5
ST=20/41 17.5 22.5
圆孔破孔率(显影1,2,3次:%) Ф6mm 0,2,9 0,0,4
Ф5mm 0,0,0 0,0,0
Ф4mm 0,0,0 0,0,0

SL1800系列

  • 代表性干膜型号:SL-1820/1825
  • 适用于直接成像355nm波长的曝光系统。
  • 高感光特性,可以有效提升生产效率。
  • 优良的解析度和密着特性,有助于精细线路的形成。

感光性干膜Photec激光直描成像用RD系列
SL-1825显影后的侧壁(L/S=30/30um)


SL-1820/SL-1825的一般特性(测试数据的一例)

特性 SL-1820 SL-1825
适用工艺 盖孔/蚀刻 盖孔/蚀刻
感光ST(ST=X/41) 17±3 17±3
曝光能量(mj/cm2) ST=14/41 8 10
ST=17/41 10 13
ST=20/41 14 19
最短显影时间(sec) 13 14
解析度 ST=14/41 13 25
ST=17/41 22.5 20
ST=20/41 15 17.5
密着性 ST=14/41 22.5 25
ST=17/41 15 20
ST=20/41 12.5 17.5